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東利彦、山本浩嗣、秋山茂範、篠﨑裕(株式会社ジーシー) 2024年 日本デジタル歯科学会第15回学術大会 P1
概要
本発表では、イニシャルLiSiブロックは微細な結晶を高密度に析出しているため、加工中に結晶が抜け落ちたとしても表面が均一に保たれており、チッピングが起こりにくい材料であることが示唆されています。
阿部喜史、東利彦、篠﨑裕(株式会社ジーシー) 2023年 日本補綴歯科学会 第132回学術大会 P-42
概要
本発表では、結晶構造とガラスマトリックス組成を最適化したイニシャルLiSiブロックは、ジルコニアと同様に優れた耐酸性を有することが報告されています。口腔内での長期間使用においても審美性が維持されること
山本浩嗣、篠﨑裕(株式会社ジーシー) 2022年 日本歯科審美学会 第33回学術大会 P-45
概要
本発表では、イニシャルLiSiブロックは微細な結晶を高密度に析出しているため、摩耗により結晶が抜け落ちたとしても摩耗量は小さく、耐摩耗性に優れた材料であることが示唆されています。
山本浩嗣、篠﨑裕(株式会社ジーシー) 2023年 日本デジタル歯科学会第14回学術大会 P6
概要
本発表では、加工後に結晶化熱処理工程が不要なイニシャルLiSiブロックは、熱による変形の心配がなく設計通りの補綴装置が作製可能であることが示唆されています。